CVD 化學蒸汽沉積技術 數位化管理系統       CVD 化學蒸汽沉積技術     CVD 提供先進的化學蒸汽沉積技術，如 PECVD, LPCVD, UHVCVD, MOCVD, LPE, VPE 及 RTP 等任何艱困的半導體前端製程，皆可迎刃而解，溫度的應用範圍可高達 2500 °F 及壓力 1500 PSI；廣泛應用於半導體、光電、無線通訊及 MEMS 及 SOLAR POWER 等領域，深受世界知名大廠使用。